ФОРМИРОВАНИЯ ПЛАЗМЫ В БОЛЬШОМ ОБЪЕМЕ НА ОСНОВЕ ЭФФЕКТА ПОЛОГО КАТОДА С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО КОРОТКОИМПУЛЬСНОГО НАПРЯЖЕНИЯ

Представлены закономерности формирования плазмы азота, аргона в полом катоде с объемом до 0,2…0,5 м3 с помощью короткоимпульсного 1…10 мкс высокочастотного 105 Гц напряжения до 3 кВ. Установлено, что, несмотря на импульсный характер напряжения, газовый разряд стабильно горит при давлении 0,1 Па и выше, величина тока разряда и концентрация плазмы возрастают при увеличении длительности импульса напряжения, амплитуды напряжения, общий ток разряда достигает 10 А, обеспечивая плотность ионного тока насыщения на изделия, помещенные в плазму до 0,5 мА/см2. Показана возможность осаждения сверхтвердого (45…50 ГПа) покрытия на основе нитрида титана внутри полого катода.